Западные эксперты: “EUV-сканеры появятся в КНР только к 2040 году”

Западные эксперты и ключевые игроки мировой полупроводниковой отрасли продолжают анализировать темпы импортозамещения в Китае. 

Согласно прогнозам немецкой группы Zeiss (основного поставщика оптических компонентов для голландского гиганта ASML), китайским разработчикам понадобится не менее 15 лет, чтобы создать собственное оборудование для литографии в диапазоне экстремального ультрафиолета (EUV).

Почему так долго?

EUV-сканеры необходимы для производства передовых микросхем с технологическим процессом 7 нм и менее. Из-за строгого экспортного контроля, введенного США и Нидерландами, готовые устройства этого класса не поставляются в Китай. В результате китайские производители вынуждены разрабатывать альтернативы с нуля.

Франк Рохмунд, руководитель отдела полупроводниковых технологий в Zeiss Group, подтвердил в интервью Bloomberg, что 15-летний срок представляется реалистичным, хотя и отметил сложность точной оценки текущего прогресса в Китае.

Единственный игрок на рынке и стимул для китайских инноваций

На сегодняшний день ASML остается единственным в мире производителем систем литографии EUV, а Zeiss Group поставляет оптику, используемую для производства 80 % всех микросхем в мире. 

Рохмунд предупредил, что дальнейшее ужесточение экспортных правил не только нанесёт ущерб доходам европейских компаний, но и ускорит развитие китайского полупроводникового сектора. Представитель Zeiss подчеркнул, однако, что китайские инженеры уже десятилетиями работают над созданием собственного оборудования, но технологическое превосходство Запада по-прежнему остается огромным.