Объединение Lam Research и IBM для создания EUV-резиста

Недавно компании Lam Research и IBM объявили о долгосрочном пятилетнем сотрудничестве, направленном на разработку EUV-резиста для технологического процесса менее 1 нм.

Долгосрочное сотрудничество с общей целью

Новый проект направлен на разработку технологического процесса для увеличения производства микросхем размером менее 1 нм. Компании планируют использовать технологию сухого резиста Aether и высокоапертурную EUV-литографию. Планируется, что процесс разработки будет проходить на базе центра IBM Research в Олбани.

Компании сотрудничают уже достаточно долго, почти 10 лет, и достигли значительных результатов в архитектуре нанолистовых транзисторов, технологическом процессе 7 нм и многих других проектах.

В новом проекте компании планируют сосредоточиться на проверке полноценных технологических процессов, обеспечении питания с обратной стороны с использованием платформ Akara и Kiyo, сухого резиста Aether, а также систем охлаждения ALTUS Halo и Striker.

Сухой резист Aether наносится с использованием парофазных прекурсоров, а также обрабатывается с помощью плазменного сухого процесса. Металлоорганические соединения Aether поглощают больше ультрафиолетового излучения. Таким образом, минимизируется доза облучения и поддерживается однократное формирование рисунка. Данный подход значительно дешевле по сравнению с многократным формированием рисунка.

В целом, новый проект направлен на обеспечение надёжной переноски высокочастотных EUV-шаблонов, а также на ускорение внедрения EUV-технологии. Использование сухого резиста имеет значительные преимущества, а сокращение количества этапов положительно повлияет на качество шаблона.

Надеемся, статья оказалась полезной - а как вы считаете? Поставьте лайк и подпишитесь на наш блог, чтобы получать больше практических советов и последних новостей о технологиях от HostZealot.