Литография нового поколения от ASML

Вместо этого на смену самой передовой технологии производства микросхем — High-NA EUV — примерно через десять лет придет технология Hyper-NA EUV. Об этом сообщили инженеры компании ASML.  

Подробности о новой литографической технологии

Новая технология Hyper-NA позволит производить микросхемы с гораздо более мелкими компонентами. Голландская компания уже приступила к разработке системы, однако окончательное решение о её серийном производстве пока не принято.

В технологии Hyper-NA по-прежнему будет использоваться EUV-излучение с длиной волны 13,5 нм, но к нему добавится оптическая система с более высокой числовой апертурой. Новая технология обеспечит разрешение примерно 5 нм и позволит формировать элементы, размер которых будет на 38 % меньше.

Что касается производителей микросхем, то только Intel приступила к использованию оборудования High NA. Samsung и TSMC в настоящее время используют EUV-литографию с перспективой перехода на High NA к 2030 году.

Компания Zeiss уже способна изготавливать зеркала с точностью, необходимой для Hyper-NA. Создание систем, превосходящих Hyper-NA, скорее всего, потребует ещё более коротких волн, но этот этап пока недостижим и находится в стадии исследований.

Надеемся, эта статья оказалась вам полезной — что вы об этом думаете? Поставьте лайк и подпишитесь на наш блог, чтобы получать больше практических советов и последние новости из мира технологий от HostZealot.