Европа вступает в эру ангстремов
14:01, 20.03.2026
Европа получила серьёзное преимущество в мировой гонке чипов. Бельгийский центр Imec установит новейший High-NA EUV-сканер от ASML. Система TWINSCAN EXE:5200 с числовой апертурой 0,55 приближает производство к техпроцессам менее 2 нм.
Перед вами инструмент, который меняет подход к литографии. По сравнению с EUV-системами NA 0,33 он формирует более мелкие структуры за один проход. Это снижает сложность процессов и повышает выход годных чипов. Производители получают лучшую точность совмещения и поддержку новых фоторезистов.
От лаборатории к промышленности
Imec и ASML уже достигли рекордных 16 нм линий за одну экспозицию в Вельдховене. Теперь разработки масштабируют на 300 мм пилотной линии NanoIC.
Полная готовность ожидается к концу 2026 года. После запуска европейская экосистема получит ранний доступ к технологиям ангстрем-класса.
Почему это важно для нас
Это стратегический шаг для Европы в эпоху после 2 нм.
По нашему мнению, High-NA EUV повлияет на процессоры в ваших устройствах, центрах обработки данных и AI-системах.
Поделитесь этой статьёй и подпишитесь на наши соцсети. Читайте другие материалы, чтобы оставаться в курсе технологических изменений.