Китайский стартап сообщил о производстве фотонных чипов без литографических машин ASML

Китайская компания Prinano объявила об успешном производстве 8-дюймовых пластин для фотонных чипов без использования традиционного оборудования для литографии в диапазоне глубокого ультрафиолета (DUV). Проект был реализован в сотрудничестве с компанией Shenzhen Litra Technology.

Этим шагом китайские компании стремятся снизить свою зависимость от литографического оборудования, поставляемого голландской компанией ASML, на которое распространяются экспортные ограничения, введенные США и рядом других стран.

Альтернатива дорогостоящим системам DUV

Вместо традиционной литографии DUV компания использовала свою запатентованную технологию вакуумной наноимпринтной литографии (NIL), известную как PL-AS. По словам разработчиков, новый подход позволяет снизить затраты на производство фотонных чипов примерно в десять раз по сравнению с традиционными технологиями производства.

В отличие от DUV- или EUV-литографии, где схемы переносятся на кремниевые пластины с помощью света и оптических систем, технология NIL работает за счет физического оттиска. Платформа PL-AS использует контроль давления на уровне пластин, специально разработанные двухслойные материалы для оттиска и запатентованные производственные процессы.

По словам Prinano, эти технологии позволяют создавать элементы размером менее 10 нанометров, что приближает платформу к требованиям современного производства полупроводников.

Технология с огромным потенциалом и вызовами

Наноимпринтная литография давно считается многообещающей альтернативой традиционным методам производства полупроводников. Она обеспечивает высокую точность и потенциально позволяет значительно снизить производственные затраты.

Однако ее широкому внедрению на протяжении многих лет мешали опасения, связанные с дефектами, износом матриц, пропускной способностью и стабильностью выхода готовой продукции. Из-за этих проблем большинство производителей микросхем продолжали полагаться на проверенные технологии DUV и EUV.

Что это означает для рынка

Если заявленные возможности подтвердятся в реальных производственных условиях и будут успешно масштабированы для массового производства, Китай может получить еще один инструмент для снижения своей зависимости от западного оборудования для производства полупроводников. В то же время наноимпринтная литография может стать более дешевой альтернативой для производства определенных типов фотонных и полупроводниковых микросхем.